静态化学吸附

  静态化学吸附过程,通常是在低于大气压的压力下收集两条“等温线”(在恒定温度下吸附的气体量作为压力的函数):第一条代表吸附等温线,第二条代表解吸等温线,两者之间的差异代表不可逆吸附(即'化学吸附')。 
 
  该技术提供了有关吸附位点数量的相关信息,可用于进行后续计算。当在一个特定温度下进行活性表面积分析时,称为等温化学吸附。
 

动态化学吸附

  动态化学吸附过程,活性表面上的活性位点的特性,数量和强度可以通过在等温或温度程序控制条件下利用动态流动系统中的脉冲化学吸附得到的吸附,解吸或者反应结果来量化。 
 
  对于动态化学吸附,根据实验需求,较低浓度的活性气体可能仅仅需要与样品接触几秒钟。根据样品的不同,活性气体达到反应平衡或者到达感兴趣的吸附位点可能会比在静态系统中更快。

程序控温反应

  程序控温分析用于研究在不同热能控制条件下的化学键作用。

TPD-程序升温脱附
  TPD用于研究材料表面上通过物理和化学作用结合的物质的解吸附。不断增加样品的温度,直到热能足以破坏化学键。通过监测分子被释放出来时的温度并确定在每个温度下解吸的气体体积来确定吸附位点的强度和数量。

TPR-程序升温还原
  TPR用于测量样品中可被还原的物质的量。该分析通常用于评估金属负载型催化剂。

TPO-程序升温氧化
  TPO用于量化材料中包含的可氧化位点。TPO通常用于诸如焦化动力学的研究,催化剂碳燃烧的评估,CO分解反应后催化剂上存在的不同形式的碳质沉积物的测定,或更普遍地说,TPO也用于氧消耗和产物转化率的测量。
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